2024年
01/30
開催
開催日時
2024/01/30
開催場所
つくば 管理棟1階 大会議室 + Zoom
講演者
Dr. Erik R. Hosler(CEO of xLight, Inc.)、Dr. Patrick P. Naulleau (CEO of EUV Tech Inc. and LBNL)
言語
English
詳細ページ
お問い合わせ
河田 洋 (PHS 4363)、加藤 龍好 (PHS 4910)、谷川 貴紀 (PHS 4126)
概要
ERLの一つの産業応用の出口戦略として次世代半導体リソグラフィー用の大強度光源と位置付けられるEUV-FELの実現に向けたワークショップを毎年開催しており、今回は“8th EUV-FEL Workshop“を開催しております。https://conference-indico.kek.jp/event/251/
今回のワークショップでは米国から二人の方（Dr. Erik R. Hosler氏, CEO of xLight, Inc.とDr. Patrick P. Naulleau氏, CEO of EUV Tech Inc. and LBNL）に招待講演をお願いしたところ、快諾を得て、来日して講演を頂く予定です。
一方、KEKのcERLの施設見学を含めて、KEKでもセミナーをお願いしたところ、こちらも快諾を頂き、以下の様に1月30日13:30-15:30にお二人のご講演を頂くこととなりました。
Dr. Erik R. Hosler氏は、近年、米国で立ち上がった加速器をベースにした半導体リソグラフィ用の光源開発製造会社であるxLight社のCEOであり、詳しい経歴は下記のアブストラクトの下に記載されています。講演は、「The Last Light Source」というタイトルで、その加速器をベースにした光源に関する講演を頂きます。
Dr. Patrick P. Naulleau氏は、放射光の皆様にはLBNLのthe Center for X-ray Opticの所長という立場で良くご存じではないかと思いますが、現在、EUV Tech Inc.社のCEOの立場も持っておられます。また、EUVリソグラフィの放射光ビームラインにおいて、そのコヒーレンスを制御する事を早くに開発されておられます。詳しくは、アブストラクトの下の経歴の所をご覧ください。今回の講演は「Coherence reduction in accelerator-based lithography systems」 のタイトルでご講演頂きます。
十分な質疑の時間も取る予定ですので、活発な議論の場となるよう，ワークショップに参加頂いた方も、また参加できなかった方も、多くの皆様のご参加をお待ちしております。
Abstract and Career of Dr. Dr. Erik R. Hosler (xLight, Inc.)
https://conference-indico.kek.jp/event/251/contributions/4778/attachments/3286/4487/Abstract_Erik%20R.%20Hosler.pdf
Abstract and Career of Dr. Patrick P. Naulleau (EUV Tech Inc, LBNL)
https://conference-indico.kek.jp/event/251/contributions/4780/attachments/3283/4491/Abstract_Patrick%20Naulleau.pdf