EUV lithography, status and opportunities

 
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開始2015/11/10（火）10:00
終了2015/11/10（火）11:00
会場4号館セミナーホール
講演者Jos Benshop氏 （ASML, Vice President）
言語英語/English
連絡先河田 洋（PHS：4363）
ウェブサイト
食堂・売店／0

概要

Jos Benschop氏は、世界的に半導体の露光システムのシェアを握るオランダのASML社のVice Presidentを 務められ、露光システム全体を掌握されておられる方です。
今回、富山で開催される「Micro-Process and Nanotechnology Conference(MNC)」 という国際会議（http://imnc.jp/japanese2015.html）で、Plenary講演を行うために来日され、その途中にKEKに 立ち寄られることになりました。cERLを見学される予定です。その際に、「「EUVリ ソグラフィーの現状と将来」に関してご講演頂けないか？さらにFEL光源の可能性に関しましても言及頂けないか？」とお願いしましたところ、快くお引き受け下さいました。ご興味 のある方は是非お集まり下さい。

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