超伝導高電界加速空洞の内面を2μm以内の仕上げ表面粗さで制御する電解研磨処理を行う施設です。
目的・ビジョン
ILC用の超伝導高電界加速空洞は、電界性能仕様として31.5Ｍｖ/ｍという値を要求します。この値の達成には、空洞内面の状態の制御が不可欠です。このため、KEK内で最新手順でこの電解研磨工程が行える施設を備えました。安全面でも十分配慮したシステムになっています。
概要
地上置きの施設であり、遠心バレル研磨、真空炉、化学研磨、10対1の95％硫酸と46％フッ化水素液を用いた電解研磨、洗浄、プリチューニング、組み立てといった一連の作業を実施します。
加速器グループと機械工学センターは、2005年からKEKのSTF棟に電解研磨工程を行うための電解研磨設備の建設・運用を行っています。
・関連するWebページ
ILC通信 http://ilc-tsushin.kek.jp/
・ 関連する研究グループ
・ リニアコライダー計画推進室 http://lcdev.kek.jp/LCoffice/OfficeAdmin/
・ ILC-Asia http://lcdev.kek.jp/
・ STF http://atf.kek.jp/
・関連する研究施設
加速器研究施設、機械工学センター
