電解研磨設備の建設

超伝導高電界加速空洞の内面を2μm以内の仕上げ表面粗さで制御する電解研磨処理を行う施設です。

目的・ビジョン

ILC用の超伝導高電界加速空洞は、電界性能仕様として31.5Mv/mという値を要求します。この値の達成には、空洞内面の状態の制御が不可欠です。このため、KEK内で最新手順でこの電解研磨工程が行える施設を備えました。安全面でも十分配慮したシステムになっています。

概要

地上置きの施設であり、遠心バレル研磨、真空炉、化学研磨、10対1の95%硫酸と46%フッ化水素液を用いた電解研磨、洗浄、プリチューニング、組み立てといった一連の作業を実施します。

加速器グループと機械工学センターは、2005年からKEKのSTF棟に電解研磨工程を行うための電解研磨設備の建設・運用を行っています。

・関連するWebページ

ILC通信 http://ilc-tsushin.kek.jp/

関連する研究グループ

リニアコライダー計画推進室 http://lcdev.kek.jp/LCoffice/OfficeAdmin/

ILC-Asia http://lcdev.kek.jp/

STF http://atf.kek.jp/

・関連する研究施設

加速器研究施設、機械工学センター