EUV lithography, status and opportunities

  • 分類 加速器セミナー
  • 開始 2015/11/10(火)10:00
  • 終了 2015/11/10(火)11:00
  • 会場 4号館セミナーホール
  • 講演タイトル
  • 講演者 Jos Benshop氏 (ASML, Vice President)
  • 言語 英語/English
  • 連絡先 河田 洋(PHS:4363)
  • ウェブサイト
  • 食堂・売店 /0

概要

Jos Benschop氏は、世界的に半導体の露光システムのシェアを握るオランダのASML社のVice Presidentを 務められ、露光システム全体を掌握されておられる方です。
今回、富山で開催される「Micro-Process and Nanotechnology Conference(MNC)」 という国際会議(http://imnc.jp/japanese2015.html)で、Plenary講演を行うために来日され、その途中にKEKに 立ち寄られることになりました。cERLを見学される予定です。その際に、「「EUVリ ソグラフィーの現状と将来」に関してご講演頂けないか?さらにFEL光源の可能性に関しましても言及頂けないか?」とお願いしましたところ、快くお引き受け下さいました。ご興味 のある方は是非お集まり下さい。